이보다 더 좋은 소재기업은 없다 : 동진쎄미켐(005290) - 감광액, EUV용 감광액, 박리액, 세척액, 식각액, 태양전지용 전극 Paste

 

 

 

 

▼ 동진쎄미켐 투자자 필독 REPORT

반도체 포토레지스트 대장주 : 동진쎄미켐(005290) - 감광액, EUV용 감광액, 박리액, 세척액, 식각액,

 

 

 

동진쎄미켐 - 이보다 더 좋은 소재기업은 없다 (느낌이블로그)

 

 

 

▼ 동진쎄미켐 기업 소개 영상

 

 

 

1. 포토레지스트 국산화 핵심기업.

-. 동진쎄미켐은 1973년 법인설립되어 반도체 및 TFT-LCD 노광공정에 사용되는 포토레지스트 관련 전자재료 사업과 산업용 기초소재인 발포제 사업을 영위함.

 

1) 1973년 7월 설립된 동진쎄미켐의 역사는 국내 소재산업 역사와 궤를 같이함.

 

 

2) 동사는 정밀화학의 불모지였던 한국에서 발포제 독자개발에 첫 성공한 것을 시작으로 1983년 반도체를 외부오염 및 충격 등에서 보호하는 EMC(Epoxy Molding Compound) 개발에 성공함.

 

3) 이때부터 동사는 전자재료 사업에 본격 뛰어들었으며, 1989년 세계에서 4번째로 포토레지스트 개발에 성공해 국산화 시대를 열었음.

 

 

4) 동사는 1994년 삼성전자에 4메가 D램용 PR 납품하면서 포토레지스트는 동진쎄미켐의 주력제품이 됐음.

 

5) 동사는 PR과 습식용액(wet chemical) 등 반도체 관련 소재가 매출의 55.7%를 차지함.

 

6) 동사의 고객사별 매출은 삼성전자 향이 전체의 40.9% 수준임.

 

 

7) 동사는 현재 반도체, 평판디스플레이용 감광액과 박리액, 세척액, 식각액, 태양전지용 전극 Paste 등 전자재료를 제조업체에 납품함.

 

8) 또한 동사는 신발밑창, 장판지 등 건설자재, 자동차 내장재에 주로 사용되는 발포제를 국내외 화학회사에 납품하고 있음.

 

▲ 발포제가 사용되는 다양한 예.

[반도체 생태계 리포트]동진쎄미켐, 일본 대체한다…캐파 1.8배 증설

 

 

-. 반도체는 실리콘 웨이퍼 위에 설계된 회로도를 얹어놓고 빛을 쬐어 회로를 찍어낸 뒤 필요 없는 부분을 씻어낸 후 이온 주입 과정을 반복해 제작됨.

 

1) 포토레지스트(PR)는 이때 웨이퍼 위에 도포하는 코팅액으로 빛이 닿는 여부에 따라 달리 반응, 미세회로 패턴을 형성할 수 있는 노광공정용 감광액임.

 

▲ 빛을 받지 않은 영역의 PR이 남아있는 이미지 (우).

 

2) PR는 반도체 칩이나 TFT-LCD 등에 사용되는 필수소재로 민감도가 뛰어날수록 짧은 파장의 빛을 쏘여 더욱 정밀한 반도체를 만들 수 있음.

 

3) RR는 반응하는 빛의 파장에 따라 불화크립톤(KrF·248nm), 불화아르곤(ArF·193nm), 극자외선(EUV·13.5nm)용 등으로 구분됨.

 

4) 반응하는 빛의 파장이 짧을수록 미세공정이 가능하며, 동사는 이 가운데 KrF를 주력 생산함.

 

5) 현재 동사는 EUV 포토레지스트를 개발 중이며, ArF는 이미 개발된 상태지만 일본 업체에 가려져 빛을 보지 못했음.

 

6) 삼성전자, SK하이닉스 등 국내 반도체 업체들은 PR 시장의 90% 이상을 점유한 일본에서 대부분을 수입할 정도로 대일 의존도가 높았음.

 

7) 일본 정부가 불화수소, 불화폴리이미드와 함께 포토레지스트를 수출규제 대상으로 꼽은 것도 이 때문임.

 

▲ 레고로 만든 반도체 8대 공정 소개 영상.

 

 

-. 반도체 업계에선 동진쎄미켐이 현재 진행 중인 반도체 소재 국산화 물결을 타고 주춤하는 일본 업체들의 포토레지스트 점유율을 빠르게 가져올 것으로 예상하고 있음.

 

1) 동사는 정부의 소부장 기업 지원을 등에 업고 경기도 화성에 조성 중이던 동진일반산업단지계획을 가속화 중임.

 

2) 경기도가 예정에도 없던 산업단지 심의위원회를 개최해 인허가 절차를 크게 앞당겼을 정도로, 동사는 토종 반도체 소재 기업에 대한 일종의 인센티브를 받고 있음.

 

▲ 동진쎄미켐 화성 단지 조감도.

 

3) 동진일반산업단지에 포토레지스트 생산설비 확충 계획을 진행, 작년 1분기부터 증설 작업에 나섬.

4) 동사가 캐파를 중점적으로 늘릴 제품은 JSR코퍼레이션, 도쿄오카공업(TOK), 신에츠화학 등 일본 업체들이 주도하는 범용 불화아르곤(ArF) 포토레지스트임.

 

5) 현재 증설은 마무리 단계에 접어들었으며 정상 가동에 들어갈 경우 생산량은 기존보다 두 배로 확대됨.

화성 동진일반산업단지 심의 통과…경기도 ‘적극행정’ 뒷받침

 

 

-. 동진쎄미켐이 총 200여억원을 투자한 반도체 PR 신공장을 본격 가동하기 시작했으며, 지난 5월 25일 경기도 화성 발안 공장에서 신규 PR 제조동 준공과 제품 출하식을 가짐.

 

1) 동사는 반도체 포토레지스트 화성 발안 신공장의 추가 증설로 PR 생산능력을 최대 4배까지 확대할 전망임.

 

2) 신공장은 지난해 4월 착공됐으며, 지하 1층, 지상 3층 연면적 3400㎡(1028평) 규모로 지어졌고 작년 12월부터 제조 설비를 들여 이날 본격 가동을 시작함.

 

3) 동사의 이번 신공장 가동은 국내 반도체 소재 공급망 강화에 기여할 전망이며, 신설 공장의 최대 생산능력은 100% 설비 구축 및 풀가동 기준 월 3만 2000갤런임.

 

4) 동사는 삼성전자 3D 낸드용 PR을 독점 공급하는 등 사실상 국내 유일 반도체 PR 업체이므로, 동사의 생산능력 확대는 곧 국내 반도체 소재 공급망 안정화로 이어짐.

 

5) 이는 2019년 발생한 일본의 수출규제와 같은 일이 다시 일어나도 대처할 수 있는 기반이 마련된 셈임.

 

6) 또한 동사는 국내 최대 반도체 업체인 삼성전자에 KrF용 PR을 공급하다가 지난해 말부터 ArF이머전(i) PR로 확장하는 데 성공함.

 

7)  ArF 노광은 웨이퍼에 도달하는 빛의 굴절을 위해 공기를 사용하는 드라이 방식과 빛 굴절률이 높은 액체를 사용하는 이머전 방식이 있는데, 삼성전자 ArFi PR 공급은 그동안 외국 회사들이 독점해왔음.

 

8) 동사는 일본 수출규제 이후 기회를 잡고 ArFi PR 개발과 양산 적용에 성공했으며, 신규 공장에서만 2025년 기준 3600억 원의 매출이 발생할 것으로 예상됨.

 

9) 앞으로 KrF, ArF 포토레지스트는 물론 EUV PR까지 동사의 화성 발안 공장에서 생산될 것임.

 

▲ 이준혁 대표와 회사 임직원들이 첫 제품 출하를 기념해 사진을 촬영하고 있음.

동진쎄미켐, 반도체 포토레지스트(PR) 신공장 준공…"PR 생산능력 4배 확대, 공급망 강화"

 

 

 

2. 국내 유일 EUV 소재 관련주.

 

-. 전 세계 반도체 기업들은 ASML의 극자외선(EUV) 노광장비 없이 선폭 10㎚(나노미터, 1㎚=10억 분의 1m) 이하 초미세공정을 소화할 수 없음.

 

1) 현재 EUV 장비의 중요성은 커지고 있지만 EUV를 생산하는 곳은 전 세계에서 ASML 한 곳뿐임.

 

2) EUV는 반도체 원판인 웨이퍼에 회로를 새길 때 활용되며, 회로를 새기는 광원의 파장이 기존 장비와 비교해 1/14의 수준으로 얇아 회로를 더 세밀하게 그릴 수 있음.

 

3) 반도체 회로 선폭이 얇아지면 웨이퍼 한 개 안에서 나오는 칩 수가 기존보다 많아지며, 전력 효율성이 높은 반도체를 만들 수 있음.

 

4) TSMC, 삼성전자, 인텔 등 메이저 반도체 기업들이 다른 기업들과 차별화되는 이유도 EUV 장비를 다수 확보하고 있기 때문임.

 

5) SK하이닉스가 최근 10 나노급 4세대(1a)를 적용한 8 Gbit(기가비트) LPDDR4 모바일 D램 양산을 시작할 수 있었던 것도 EUV 공정을 적용한 덕분임.

 

6) 그러나 ASML이 독점하고 있는 EUV 장비의 대당 가격은 2000억 원이 넘을 정도로 비쌈.

 

7) 또한 EUV 장비를 만드는 시간이 오래 걸리기 때문에 1년에 30~40대 밖에 생산하지 못함.

 

8) 즉 돈이 있어도 살 수 없으며, 반도체 기업 간 기술 격차가 EUV 장비 확보량에 따라 더 벌어지고 있다는 말도 나옴.

 

▲ 한 대에 2천억이 넘는 EUV 장비에 대해 알아 보자.

 

 

-. 동진쎄미켐은 EUV PR 국산화에 도전하고 있으며, 사내 인프라와 벨기에 반도체 허브인 아이멕(IMEC)의 EUV 노광기 등을 활용해 EUV PR을 개발 중임.

 

1) EUV PR은 EUV 공정에 사용되는 PR로 차세대 반도체 제조에 사용되는 핵심 소재이며, JSR, 신에츠, TOK 등 일본 업체들이 시장을 장악하고 있음.

 

2) EUV PR은 반도체 초미세 공정에서 반드시 필요한 액체 소재이며, 13.5 나노(㎚) 파장의 EUV 광원을 활용한 노광 공정을 진행할 때 쓰임. 

 

▲ EUV 포토레지스트는 반도체 회로를 구현하는 핵심 소재임.

▲ EUV 노광기 작동 그림.

 

3) 동사는 관련 연구를 진행할 인력을 보강하는 한편 EUV PR을 개발하기 위한 다양한 테스트를 진행하고 있으며, 올해 지속적으로 EUV PR용 PAG 합성/개발의 석사 이상 인력을 확보함.

 

4) 동사는 또한 차세대 EUV PR 사업 영위를 위해 지난해 김영선 전 ASML 코리아 사장을 부회장으로 영입하기도 했음.

 

5) 김영선 부회장은 EUV 노광 장비를 독점 생산하는 ASML 경험을 바탕으로, 동진쎄미켐에서 EUV PR 등 각종 차세대 사업 진출과 영업에 관여하고 있음.

 

6) 현재 동사가 자체 개발한 EUV PR 샘플 제품으로 회로 패턴 형성은 가능한 상황이며, 품질 유지 및 개선 과정이 남은 상태임.

 

7) 동사는 EUV PR 개발도 성공시켜 신공장에서 만들겠다는 각오를 가지고 있으며, 현재 EUV PR은 순조롭게 개발이 진행되고 있음.

 

8) 국내에서는 동진쎄미켐 외에도 SK머티리얼즈 계열의 SK머티리얼즈퍼포먼스가 EUV PR 국산화를 진행하고 있음.

동진쎄미켐, EUV PR 개발 박차…인력 보강 및 테스트 속도

 

 

 

3. 디스플레이, 이차전지 소재까지 뒤집어 놓으셨다.

 

-. 한국전자통신연구원(ETRI)과 동진쎄미켐이 포토레지스트의 핵심원료인 안료를 국산화하고 저온에서도 색이 균일하게 도포될 수 있는 포토레지스트 소재를 개발함.

 

1) 디스플레이는 빛을 받으면 화학적 특성이 달라지는 소재인 포토레지스트(Photoresist)로 얇은 막에 세밀한 픽셀을 형성해 만듦.

 

2) 디스플레이 포토레지스트는 디스플레이 패널을 만드는 데 꼭 필요하지만, 소재를 만들거나 이를 다루는 기술이 어려워 그간 주로 수입 제품에 의존해오고 있었음.

 

3) 2019년부터 수출규제가 시작된 뒤 ETRI는 ICT 소부장 자립 및 도전 기술 개발과제와 저온 경화 및 고해상도 컬러 포토레지스트 소재 개발과제 등을 수행하며 기술 자립을 위해 노력해왔음.

 

 

4) ETRI는 100℃ 이하 공정 온도에서도 픽셀 크기가 3μm 이하로 만들 수 있는 소재 기술을 개발했으며, 이를 국내 최초로 OLED 디스플레이에 적용하는 데 성공했다고 밝힘.

 

5) 보통 230도가량의 고온에서 공정을 진행해왔지만, 100도 이하의 저온에서도 색을 균일하게 도포할 수 있는 기술로 웨어러블 기기에 적합함.

 

6) 과제 참여기관인 SKC 하이테크앤마케팅과 동진쎄미켐에서 포토레지스트의 핵심원료인 안료를 국산화하고 이를 적절히 배합하면서 낮은 온도에서도 색이 균일하게 도포될 수 있는 포토레지스트 소재를 만듦.

 

7) 이 포토레지스트를 사용하면 한 픽셀 당 3 마이크로미터 이하로 1인치당 2,300개 픽셀을 밀집해 고해상도 패널을 제작할 수 있음.

 

8) 개발된 소재는 국내 경쟁기업은 물론, 일본 기업에서도 개발하지 못한 혁신적인 성과로 평가받고 있음.

[특징주] 동진쎄미켐, 세계최초 OLED 포토레지스트 상용화… 삼성전자 공급업체 부각 - 머니S

OLED용 포토레지스트 국산화 성공

 

 

-. 동진쎄미켐은 폭스바겐의 전기자동차 파트너인 노스볼트에 음극재를 공급하기 위해 작년에 스웨덴법인을 설립함.

 

1) 동사는 올해 신규 시설투자를 위해 자금을 투입하고 있으며, 17일 공시에 따르면 동진쎄미켐은 해외 종속회사인 동진스웨덴AB(Dongjin Sweden AB)에 채무보증을 서기로 결정함.

 

2) 채권자는 한국수출입은행이며 채무금액은 212억 원임.

 

3) 2020년 말 자기 자본(4380억 원) 4.85%에 해당하는 수준이며, 보증기간은 2021년 6월 말부터 2027년 6월 30일까지임.

 

4) 이는 스웨덴 소재 종속회사인 동진스웨덴 AB의 2차 전지 소재 생산을 위한 신규시설투자 자금 대출 보증제공임.

 

5) 스웨덴법인은 지난해 5월 설립된 곳으로 스웨덴 배터리 업체인 노스볼트사와 지난해 10년 음극재 공급 장기계약을 맺으면서 만들어짐.

 

▲ 폭스바겐, BMW 협력업체 노스볼트.

 

6) 동사가 스웨덴법인 채무보증을 한 것은 이번이 처음이 아니며, 올 들어서만 총 546억 원의 자금을 끌어옴.

 

7) 동사는 노스볼트사에 2차 전지 필수 요소인 음극재 바인더 중 CNT도전재와 독자적으로 개발한 음극재를 동시 공급할 예정임.

 

▲ 2차 전지 필수 요소인 음극재 바인더.

동진쎄미켐, 스웨덴 투자 확대 '2차전지' 키운다

 

 

-. 현재 노스볼트는 쉘레프테오 공장을 짓고 있는데 올해 안으로 양산체제에 돌입할 예정임.

 

1) 노트볼트는 2016년 만들어진 전기차 배터리 생산업체로 ABB, BMW, 폭스파겐 등을 고객사로 두고 있음.

 

2) 노스볼트의 이 신규 배터리 공장은 2월 5250만 유로의 EIB대출을 받아 연간 16 GWh 배터리 생산용량 규모로 건설 중이며, 이는 국내 2차 전지 소재 기업에게도 큰 호재가 될 것으로 예상됨. 

 

3) 노스볼트는 2030년 유럽 최대 배터리 공급업체를 목표로 공격적인 투자를 진행하고 있으며, 동진쎄미켐은 노스볼트 공장 근처에 2차 전지 소재 공급 공장을 짓게 됨.

 

4) 노스볼트의 공장이 완성될 때까지 동진쎄미켐은 국내에서 제품 전량을 만들어서 공급한다는 계획임.

 

5) 현재 2차 전지 소재 중 음극재 원가 비중은 17% 정도로 향후 공급 규모에 따라 동진쎄미켐의 실적에도 큰 영향을 미칠 것으로 예상됨.

 

▲ 노스볼트의 리튬이온 배터리공장 조감도.

 

 

 

4. 느낌이의 투자 의견 종합

 

-. 고순도 불화수소와 달리 반도체 포토레지스트는 현재 국내에서 동진쎄미켐만 생산이 가능하며, 3D 낸드 공정에 많이 사용되는 KrF PR 주력 공급업체로 자리 잡고 있는 동사는 국내 소부장 대표 기업으로 손색이 없음. 

 

-. 동사는 아직 EUV PR 개발은 못했지만 삼성전자의 3위 공급사로 선정된 것은 고객사의 국산화 의지가 반영된 것으로, EUV PR 개발 성공 시 장기 성장 모멘텀은 확보한 것과 마찬가지임. 

 

-. 동사는 또한 2차 전지 소재 사업과 함께 올해 연간 1조 원대의 매출을 달성할 것으로 보이며, 꾸준히 외형 성장을 이어갈 것으로 예상됨에 따라 역사적 신고가를 돌파하려고 하는 현시점을 새로운 시세의 시작이라고 판단함.

 

 

매수 의견 : ★★★★★